Technology Application
技術(shù)應(yīng)用Laser boron doping technology
應(yīng)用原理 / Principle
激光硼摻雜技術(shù)是在現(xiàn)有PERC電池技術(shù)基礎(chǔ)上,通過(guò)沉積或印刷硼摻雜源,在激光背面開(kāi)槽過(guò)程中,同步形成激光重?fù)诫s區(qū) P++層。其中激光摻雜形成的P++層,可以有效的降低背面接觸復(fù)合速率,同時(shí)降低背面硅鋁接觸電阻,提升太陽(yáng)電池開(kāi)路電壓Voc和填充因子FF,提升電池轉(zhuǎn)換效率。
Process Introduction
激光硼摻雜技術(shù)是PERC電池技術(shù)未來(lái)升級(jí)的方向之一。采用CVD沉積或者印刷方式,在PERC藍(lán)膜片背面形成一層硼摻雜源,通過(guò)激光開(kāi)槽過(guò)程中的熱效應(yīng),將硼元素同步摻雜進(jìn)硅襯底中,形成P++層,即重?fù)诫s區(qū)。一方面,重?fù)诫s區(qū)形成P++P高低結(jié),形成場(chǎng)鈍化效應(yīng),另一方面,可有效降低鋁硅接觸電阻,從這兩方面提升Voc 和FF,進(jìn)而提高太陽(yáng)電池轉(zhuǎn)換效率。